等離子體噴涂裝置和方法

  名稱：等離子體噴涂裝置和方法

    公開(公告)號：CN101653047

    公開(公告)日：2010.02.17

    主分類號：H05H1/24(2006.01)I

    申請(專利權(quán))人：等離子體技術(shù)有限公司

    地址：英屬維爾京群島托托拉島

    發(fā)明(設(shè)計)人：尼克萊·蘇斯洛夫

    國際申請：2007-02-02PCT/EP2007/000919

    國際公布：2008-08-07WO2008/092478英

    進(jìn)入國家日期：2009.09.30

    專利代理機(jī)構(gòu)：北京安信方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司

    代理人：顏濤

    摘要

    本發(fā)明公開了用于等離子體噴涂的裝置和方法。該裝置包括陰極、陽極、由陽極和中間電極形成的等離子體通道、和一個或多個可流動材料注射器。等離子體通道具有節(jié)流部分，其將該等離子體通道分為由至少一個中間電極形成的接近陰極的高壓部分和接近陽極的低壓部分。在操作過程中，等離子體發(fā)生氣體由保持在陰極和陽極之間的電弧加熱，以形成等離子體。當(dāng)?shù)入x子體通過節(jié)流部分時，等離子體的速度增大到超音速，而同時等離子體的靜態(tài)壓力下降。可流動的材料被注入在低壓部分中流動的等離子體中。在可流動材料中的微粒由等離子體加熱，并且生成的被加熱微粒和等離子體從等離子體通道的出口被輸出。