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填裂紋和阻止氧擴(kuò)散；碳化物保證氧化物與C/C復(fù)合材料的化學(xué)相容性；內(nèi)層氧化物提高碳化物與玻璃的化學(xué)相容性。制備此種涂層的難點在于發(fā)展?jié)M足各層之間化學(xué)相容性的制備工藝和協(xié)調(diào)各層之間的熱膨脹匹配關(guān)系。
第二種為：Rh/Ir/碳化物：
Rh是阻止氧擴(kuò)散能力很強(qiáng)的氧阻擋層；Ir是Rh與碳化物的隔離層：碳化物是Ir與C/C復(fù)合材料的隔離層。
(2)抗氧化涂層的制備方法
外涂層的制備方法主要有CVD(化學(xué)氣相沉積)和包埋法（Pack Cementration）,其它方法還有等離子噴涂（Plasmaspray）、濺射（Sputtering）、電沉積（electro-deposition）、漿料刷涂熱解工藝等。
氣相沉積主要包括CVD，PACVD（PlasmaAssisted Chemical Vapor Deposition:激光輔助化學(xué)氣相沉積），PLD（Pulsed Laser Deposition：脈沖激光沉積），LICD（Laser-induced Chemical Deposition：激光誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積）等。
1)CVD：最具有吸引力的CVD涂層材料是SiC、Si3N4，因為它們分別具有5x10-6/k和3x10-6/k的熱膨脹系數(shù)，與其他抗氧化材料相比，更接近于C/C復(fù)合材料的熱膨脹系數(shù)，且具有高達(dá)1700℃的抗氧化能力，如一種小型火箭發(fā)動機(jī)的推進(jìn)室就采用了SiC涂層[37]。
N．Popovska等[38]用CVD法制備了兩種復(fù)合涂層：